technologyASML、第2世代の高開口数EUV露光装置を大手半導体メーカーへ出荷蘭ASMLは第2号機となるHigh-NA EUV露光装置を出荷し、2nm未満の先端半導体量産への道を切り拓きました。Jerry Vasoya ·26 9月 2026 ·4 min read